真空泵机组真空中气体分子运动理论

时间:2019-04-01 浏览:
             真空泵机组这种生长方式取决于薄膜在形核阶段是通过二维扩展的模式沿衬底表面铺展而来的真空泵机组此时的衬底与被沉积物质具有好的浸润性积在衬底表面的原子更愿意和衬底原子结合成键形成一连续的单分子层随后在第一层的基础上再生长一层分子层。持续这样层层叠加生长下来最后形成具有一定厚度且连续的薄膜刚开始的一两层原子是属于层状生长随着原子沉积量的增加生长方式从层状生长方式转为岛状生长方式。这种生长方式产生的原因可能是因为薄膜和基材之间的晶格常数不匹配原子不断沉积应变能也会渐渐增大薄膜生长到一定厚度后转为岛状生长以此来松弛这部分能量薄膜的形成过程与设置的工艺参数条件、基体的种类和靶材等因素有关。薄膜的生长要经历吸附、迁移扩散、晶核形成、连续膜的形成等四个阶段。
            在实际中薄膜的生长过程很复杂受诸多因素的影响。其中包括原子的入射能量、入射角度、入射率、沉积温度、衬底的表面形貌、沉积时间以及沉积原子之间的作用力等射粒子在基底表面的扩散也与入射时粒子所携带的能量有关适当的增加能量能够改善薄膜的结构和性能。入射能量越高则越有利于薄膜表面原子的扩散从而有利于生成连续膜。从热力学的角度分析入射原子的能量越高有利于形核速度的提高。这主要是因为高能量的原子在撞击基体表面时一部分动能转化为热能使基体局部温度升高。损失部分能量后原子剩余的动能还能在表面进行迁移。磁控溅射离子镀技术是沉积各种功能薄膜和硬质薄膜的最主要技术之一在薄膜领域应用及其广泛。磁控溅射技术发展于七十年代具有沉积速度快、重复性好、膜层质量好、基底温度低膜基结合力好等优点。缺点是靶材利用率低。